ta-C薄膜是非晶四面体碳膜的简称(TetrahedralAmorphous Carbon).ta-C薄膜是以碳基材料为基础，采用阴极磁过滤真空电弧技术，将碳原子中的sp3键滤出重新排列，实现了高sp3键微晶结构。
ta-C薄膜具有超高硬度、低摩擦系数、耐腐蚀等优良性能，其摩擦学、化学、光学和物理特性是目前最接近天然金刚石的薄膜。
目前衡量类金刚石薄膜质量最重要也是最尖端的技术指标是其sp3键含量，这项指标是目前世界上已披露的同类薄膜的最高指标。
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